1. Technische Details
Das Rasterelektronenmikroskop (REM) Zeiss Supra 55 VP ist ein hochauflösendes Rasterelektronen Mikroskop (REM) der Firma Zeiss.
Das Mikroskop verfügt über eine Feldemissionskathode (engl. „Field Emission Gun“, FEG). In Kombination mit der verbesserten GEMINI® Säule erreicht es eine hohe Bildauflösung über den gesamten Spannungsbereich von 100 V - 30kV.
Das "VP" im Namen steht für "Variable Pressure" und meint, dass es neben herkömmlichen Untersuchungen im Hochvakuum (HV-Mode) auch möglich ist Proben bei Drücken in der Probenkammer bis zu 1,33 mbar zu untersuchen (VP-Mode).
Der VP-Mode ermöglicht zum einen die Untersuchung von "feuchten" Proben und aufgrund der Arbeitsweise im VP-Mode auch von elektrisch nicht oder nur wenig leitfähigen Materialien ohne diese mit leitfähigen Elementen, wie z.B. Gold, zu "bedampfen".
Neben einem Everhart-Thornley-Detektor (SE2 Detektor) und dem VP-SE Detektor (VP-Mode) verfügt unser Zeiss Supra 55 VP auch über einen In-Lens Detektor und ein 4 Quadranten Rückstreu-Elektronen Detektor (QBSD).
Die Probenkammer des Zeiss Supra ist verhältnismäßig groß, sodass auch größere Proben untersucht werden können.
Aufgrund seiner Ausstattung ist das Zeiss Supra besonders für Untersuchungen von Nanostrukturen geiignet. Eine Besonderheit unsres Zeiss Supras ist die sehr gute Ausstattung mit analytischen Methoden von der Firma OXFORD INSTRUMENTS: EDX Elementanalyse mit einem 80 mm² großem Silizium Drift EDX Detektor (SDD), WDX und EBSD.
Die wichtigsten Spezifikationen werden folgend genannt:
Auflösung:
1,0 nm bei 15 kV
1,7 nm bei 1 kV
3,5 nm bei 0,2 kV
2,0 nm bei 30 kV (VP-Modus)
VP Vakuum:
2 - 133 Pa, einstellbar in 1 Pa Schritten
2. Standort und Geräteverantwortliche
Standort: Gebäude H in Raum -1.23B
1. Geräteverantwortliche: Jens Timmermann, Durchwahl: -4575, j.timmermann@tuhh.de
2. Geräteverantwortliche: Dr. Tobias Krekeler, Durchwahl: -4667, krekeler@tuhh.de
3. Geräteverantwortliche (Vertreter 2): Dr. Martin Ritter, Durchwahl: -3544, ritter@tuhh.de