Überblick Geräte und Methoden (Geräteverantwortliche)

Diese Seite gibt einen Überblick über die einzelnen Geräte und Methoden der BeEM mit Nennung der jeweiligen Geräteverantwortlichen.

Nähere Informationen finden Sie in den einzelnen Unterseiten im Menü auf der linken Seite.

Bei Fragen wenden Sie sich gerne an den jeweiligen Geräteverantwortlichen.

1. Rasterelektronenmikroskope (REM)

Bei der Rasterelektronenmikroskopie (REM, auch Rasterelektronenmikroskop) wird die Probenoberfläche mit einem fein fokussierten Elektronenstrahl in einem Raster sondiert. In jedem Rasterpunkt entstehen hierbei Sekundärelektronen (SE) und Rückstreuelektronen (BSE, engl. „Back Scattered Electrons“).

Die SE und BSE können mit verschiedenartigen Detektoren detektiert werden, wodurch es möglich ist simultan zur Abrasterung indirekte Abbildungen der Probenoberfläche zu erhalten.

Unsere Rasterelektronenmikroskope:

  • Zeiss Supra 55 VP FEG-SEM mit Variable Pressure Mode (VP-Mode), EDX, WDX und EBSD
    (Gebäude H, Raum 0554, verantwortlich: Jens Timmermann, Tel.: -4575, Vertretung: Farhad Riazi, Tel.:-4573)
  • Leo Gemini 1530 FEG-REM mit EDX
    (Gebäude M, Raum 3526, Tel.: 2320, verantwortlich: Farhad Riazi, Tel.: -4573, Vertretung: Jens Timmermann Tel.: 4575,)

2. Transmissionselektronenmikroskope (TEM)

Bei der Transmissionselektronenmikroskopie (TEM, auch Transmissionselektronenmikroskop) werden die zu untersuchenden Proben durchstrahlt (Transmission).

Es ist somit eine direkte Abbildung der Probenstruktur möglich. Die Proben müssen ausreichend dünn sein, welches eine besondere Probenpräparation erfordert.

Mit dem TEM können sehr höhe Auflösungen erzielt werden. Durch elastische Beugung der Elektronen an kristallinen Probenbereichen kann auch die Kristallstruktur bestimmt werden.

Unser Talos F200X bietet auch noch eine Vielzahl anderer Untersuchungsmöglichkeiten. Mehr Informationen finden Sie im Menü auf der linken Seite.

3. Focussed Ion Beam (FIB)

4. Analytische Methoden

Neben der reinen Bildgenerierung (Abbildungsverfahren) können Elektronenmikroskope aufgrund der verschiedenartigen Wechselwirkungsprozesse des Elektronenstrahls mit dem Probenmaterial auch für die Beantwortung diverser analytischer Fragestellungen genutzt werden.

Aufgrund der Entstehung von charakteristischer Röntgenstrahlung in der Probe ist es beispielsweise möglich die Elementzusammensetzung einer Probe zu bestimmen (EDX und WDX). Wohingegen aufgrund der Beugung des Elektronenstrahls an kristallinen Strukturen kann die Kristallstruktur und Orientierung bestimmt werden (Beugung im TEM und EBSD).

Die Kombination verschiedener Methoden kann in Verbindung mit modernen Computerprogrammen auch genutzt werden 3D Modelle der Probenstruktur oder sogar einzelner Probenphasen zu generieren.

4.1. EDX (Energiedispersive Röntgenmikroanalytik)

Steht an allen unseren Elektronenmikroskopen zur Verfügung. Bei Fragen wenden Sie sich bitte an den jeweiligen Geräteverantwortlichen:

  • Zeiss Supra 55 VP FEG-SEM mit Variable Pressure Mode (VP-Mode), EDX, WDX und EBSD
    (Gebäude H, Raum 0554, verantwortlich: Jens Timmermann, Tel.: -4575, Vertretung: Farhad Riazi, Tel.:-4573)
  • Leo Gemini 1530 FEG-REM mit EDX
    (Gebäude M, Raum 3526, Tel.: 2320, verantwortlich: Farhad Riazi, Tel.: -4573, Vertretung: Jens Timmermann Tel.: 4575,)

4.2  WDX (Wellendispersive Röntgenmikroanalytik)

WDX steht nur am Zeiss Supra 55 VP zur Verfügung. Bei Fragen wenden Sie sich bitte an den Geräteverantwortlichen:

  • Zeiss Supra 55 VP FEG-SEM mit Variable Pressure Mode (VP-Mode), EDX, WDX und EBSD
    (Gebäude H, Raum 0554, verantwortlich: Jens Timmermann, Tel.: -4575, Vertretung: Farhad Riazi, Tel.:-4573)

4.3  TEM-Beugung und TEM 3D Tomographie

4.4  3D Untersuchungen sowie 3D Rekonstruktion an der FIB

5. Lichtmikroskope

  • Leica EZ4 HD Stereomikroskop
    (Gebäude M, Raum 2556, verantwortlich: Lida Wang, Tel.: -4574)
  • Olympus SZ 30
    (Gebäude M, Raum 2556, verantwortlich: Lida Wang, Tel.: -4574)

6. Probenpräparation

  • Leica EM RES102 Ist eine einzigartige Ionenstrahlmühle die die Präparation von TEM, SEM und LM Proben erlaubt, Verantwortlich: 1. Farhad Riazi, Tel.: - 4573, 2. Tobias Krekeler, Tel.: -4667.  
  • Ultramikrotom Leica EM UC7, weitere Informationen unter Leica Microsystems
    (Gebäude M, Raum 2556, verantwortlich: Lida Wang, Tel.: -4574)
  • Leica EM TXP
    (Gebäude M, Raum 2556, verantwortlich: Lida Wang, Tel.: -4574)
  • Goldsputteranlage SCD 050 von Baltec
    (Gebäude M, Raum 3526, verantwortlich: Farhad Riazi, Tel.: -4753)
  • Kritisch Punkt Trockner CPD 7501 von Polaron
    (Gebäude M, Raum 2549, verantwortlich: Jens Timmermann, Tel.: -4575)
  • Struers TenuPol-3
    (Gebäude M, Raum 2549, verantwortlich: Lida Wang, Tel.: -4574)
  • Diener Plasma Cleaner
    (Gebäude M, Raum 3526, verantwortlich: Farhad Riazi, Tel.: -4753)