Eigenschaften dotierter SiO2-Wellenleiterschichten für UV-Strukturierungsverfahren zur Realisierung passiver optischer Wellenleiterkomponenten

Eigenschaften dotierter SiO2-Wellenleiterschichten für UV-St

C. Aichele, M. Becker, S. Grimm, F. Knappe, M. Rothhardt,
Eigenschaften dotierter SiO2-Wellenleiterschichten für UV-Strukturierungsverfahren zur Realisierung passiver optischer Wellenleiterkomponenten
VDE-ITG-Fachausschuss 9.1 - Diskussionssitzung: Messung und Modellierung in der Optischen Nachrichtentechnik, MMONT 2005 - 1.-3. Juni, Elsa-Brändström-Haus, Hamburg-Blankenese (Paper Fr 3), p. 25 (2005)

Abstract: Das Flammenhydrolyseverfahren zur Herstellung von Wellenleiterschichten ist eine etablierte Methode, planare optische Wellenleiter für passive integrierte optische Bauelemente in „Silica on Silicon“ - Technologie zu realisieren. Dabei gewinnen die UV-Direkteinschreibverfahren von Wellenleitern immer mehr an Bedeutung, so daß die Notwendigkeit besteht, auch die Materialsysteme an die erhöhten Anforderungen insbesondere bezüglich UV-Photosensitivität anzupassen. Es werden zwei neue FHD-Schichtmaterialien vorgestellt, die sich aufgrund ihrer Eigenschaften besonders für das direkte UV-Einschreiben von Wellenleiterstrukturen eignen. Die Schichten wurden bezüglich UV-Photosensitivität, Brechungsindex, Homogenität und chemischer Zusammensetzung charakterisiert.

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